Weiterentwicklung einer Durchlauf – Epitaxieanlage und Implementierung einer turbulenten Gasführung (eBook, PDF)

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Produktbeschreibung

Um die Energieversorgung bei knapper werdenden Rohstoffen für die Zukunft zu sichern und gleichzeitig den Ausstoß an CO2 zu verringern, hat Deutschland im Jahr 2000 das Erneuerbare-Energien-Gesetzt eingeführt. Die Photovoltaik (PV) nimmt dabei eine wichtige Rolle ein, da ihr Potential das mit Abstand größte unter den erneuerbaren Energiequellen ist. Um dieses Potential zu nutzen wurden hohe Investitionen in die Grundlagenforschung und in die Entwicklung von PV-Industrietechnik getätigt. Auf diese Weise konnten seit dem Jahr 2000 die Kosten für PV-Strom auf deutschen Hausdächern von ca. 50 ct/kWh auf 11 ct/kWh gesenkt werden. Zur Realisierung dieses Fortschrittes wurden im Wesentlichen zwei Strategien verfolgt. Erstens, die Entwicklung von amorphen Dünnschichttechniken, welche sich durch einen extrem niedrigen Preis, aber auch durch einen geringeren Wirkungsgrad auszeichnen. Zweitens, die Entwicklung von möglichst reinen, kristallinen Siliziumwafern, welche zwar teuer sind, aber einen hohen Wirkungsgrad erreichen. Um die Vorteile der Dünnschichttechnik mit denen von kristallinen Siliziumwafern zu kombinieren, wird die ConCVD (Continuous Chemical-Vapor-Deposition) entwickelt, welche ein Bindeglied zwischen Laboranlage und Industrieanlage darstellt. Um diese Anlage weiterzuentwickeln, musste zunächst die Sicherheit und Zuverlässigkeit erhöht werden. Dazu wurden der Antriebsstrang, die Sensorik, die Wärmeisolation und die Materialeingenschaften des inneren Aufbaus optimiert. Nach diesem klassischen Anlagenbau, musste die Qualität der aufgewachsenen Schichten so weit erhöht werden, dass der Wirkungsgrad mit dem von standart Wafern konkurrieren kann. Hierzu wurde ein Grundlagenmodell entwickelt, welches die Gaszusammensetzung am Ort der Abscheidung und die daraus resultierende Kristallqualität vorhersagen kann. Dieser entscheidende Arbeitsschritt erforderte neben Halbleitercharakterisierung und Prozessoptimierung auch Kristallisationstheorie und Strömungssimulation. Durch das Zusammenspiel von Themengebieten aus der Ingenieurtechnik und der Grundlagenforschung, konnte die Leistungsfähigkeit der ConCVD deutlich gesteigert werden. Zum einen wurden die Schichthomogenität, die Abscheiderate und die Anlagenstabilität auf ein industrielles Niveau gehoben. Zum anderen konnte die Kristallqualität auf das Niveau von Laboranlagen gesteigert werden, was zu einem Anstieg des Solarzellenwirkungsgrades von 5,1% auf 14,1% führte.

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Produktdetails

• Verlag: Cuvillier Verlag
• Seitenzahl: 146
• Erscheinungstermin: 17. Juni 2015
• Deutsch
• ISBN-13: 9783736980242
• Artikelnr.: 49153566

Autorenporträt

Der im unterfränkischen Werneck geborene Dipl.-Ing. (FH) Martin Keller wurde bereits 2009 für seine Diplomarbeit mit dem E.on-Kulturpreis ausgezeichnet. Diese Arbeit zum "Design der Oberflächentextur einer Dünnschichtsolarzelle mithilfe statistischer Versuchsplanung" fertigte er im Studiengang Physikalische Technik der Hochschule Coburg in Kooperation mit dem Fraunhofer Institut für Solare Energiesysteme in Freiburg an. Danach arbeitet er dort als Doktorand an der "Weiterentwicklung einer Durchlauf-Epitaxieanlage und Implementierung einer turbulenten Gasführung". Da diese Aufgabenstellung neben Halbleiterphysik, Kristallographie und Strömungssimulation auch Anlagenbau beinhaltet, war der fachlich breit aufgestellte Studiengang physikalische Technik eine hervorragende Grundlage zum erfolgreichen Abschluss der Promotion. Mr. Dipl.-Ing. (FH) Martin Keller, born in Lower Franconia, was already awarded with the E.on Culture-Award for his diploma thesis in 2009. This thesis with the topic "Design of the surface texture of a thin film solar cell by using design of experiments" was made within the study course physical technology of the Coburg University and the Fraunhofer-Institut for solar Systems in Freiburg. After the diploma thesis he explored in the same working group as a PhD student the "Development of a high-throughput CVD tool by implementing a turbulent gas flow". Because of the with field of contents like semiconductor physics, crystallography, flow simulations and plant engineering, the study program physical technology was an excellent basis to complete the dissertation successfully.