Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma - Phan, Thành-Long
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L'objectif de ce travail porte sur la généralisation de la modélisation de la gravure du silicium dans les plasmas de fluor ou de chlore à celle de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V de structure cristalline de type diamant ou zinc-blende dans les plasmas d'halogènes, i.e. fluor, chlore, brome et iode. Dans ce contexte, les effets stériques et de diffusion en volume et/ou en surface en constituent les problématiques principales. Cette généralisation s'appuiesur le modèle de gravure de Petit et Pelletier qui, par rapport aux modèles antérieurs, prend en compte un…mehr

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Produktbeschreibung
L'objectif de ce travail porte sur la généralisation de la modélisation de la gravure du silicium dans les plasmas de fluor ou de chlore à celle de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V de structure cristalline de type diamant ou zinc-blende dans les plasmas d'halogènes, i.e. fluor, chlore, brome et iode. Dans ce contexte, les effets stériques et de diffusion en volume et/ou en surface en constituent les problématiques principales. Cette généralisation s'appuiesur le modèle de gravure de Petit et Pelletier qui, par rapport aux modèles antérieurs, prend en compte un certain nombre d'hypothèses distinctes ou additionnelles telles que les interactions répulsives entre adatomes d'halogènes proches voisins, les mécanismes de Langmuir-Hinshelwood pour la formationdes produits de réaction, la nature mono-couche ou multi-couches de l'adsorption, et la diffusion des adatomes en surface.
Autorenporträt
L'auteur a obtenu son doctorat en physique appliquée de l'Université Joseph Fourier, Université de Grenoble Aples. L'auteur est actuellement enseignant à l'Université de polytechinque de Danang, Vietnam.