Elena Anatol'ewna Shnqgina

Sozdanie fotoshablonow metodom lazernoj bezmaskowoj litografii

• Broschiertes Buch

Produktbeschreibung

Osnownoe mesto w sowremennoj tehnologii izgotowleniq izdelij mikroälektroniki zanimaet fotolitografiq. Tehnologicheskij process fotolitografii sostoit iz neskol'kih osnownyh operacij: podgotowki powerhnosti poluprowodnikowoj plastiny, naneseniq na powerhnost' plastiny sloq fotorezista, sushki fotorezista, äxponirowaniq, proqwleniq i zadubliwaniq fotorezista, kontrolq geometricheskih razmerow izobrazheniq, trawleniq plenki, promywki plastiny posle trawleniq, udaleniq plenki fotorezista s powerhnosti, kontrolq obrabotannyh plastin. Cel'ü raboty qwlqlos' poluchenie fotoshablonow s minimal'nymi parametrami, wozmozhnymi dlq dannogo oborudowaniq. Dlq ätogo issledowalos' wliqnie wremeni äxpozicii i wremeni proqwleniq na parametry fotoshablonow (harakter risunka), poluchennyh metodom bezmaskowoj lazernoj litografii na ustanowke äxponirowaniq "Heidelberg µPG501". V rezul'tate wypolneniq raboty byli izgotowleny fotoshablony s geometricheskimi parametrami 2 mkm, pri ätom dlq dannoj partii ustanowleny optimal'nye wremq äxpozicii 35 ms i wremq proqwleniq 60 s .

Produktdetails

• Verlag: LAP Lambert Academic Publishing
• Seitenzahl: 76
• Erscheinungstermin: 4. April 2019
• Russisch
• Abmessung: 220mm x 150mm x 5mm
• Gewicht: 131g
• ISBN-13: 9783659964565
• ISBN-10: 3659964565
• Artikelnr.: 56494926

Autorenporträt

Elena Anatol'ewna Shnqgina - student (magistr) Nacional'ngo issledowatel'skogo tehnologicheskgo uniwersiteta «MISiS», Institut nowyh materialow i nanotehnologij.