Sol-Gel-Verfahren für die Herstellung von Zirkoniumdioxidschichten
Schichtcharakterisierung und Anwendung als Hartmaskenmaterialien in der Halbleitertechnik
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Die homogene Beschichtung von Substraten mit widerstands-fähigen Maskenmaterialien ist ein Schlüsselschritt in der Halbleitertechnologie. Dieses Buch befasst sich mit dem ökonomisch vorteilhaften Spin-Coating-Verfahren zur Applikation von geeigneten Zirkoniumdioxid-Schichten auf 300 mm Silizium-Wafern. Ausgehend von flüssigen Solen werden über Sol-Gel-Transformation feste Schichten erhalten, deren Eigenschaften für die Anwendung einstellbar sind. Mittels der entwickelten Beschichtungsstrategien sind nanokristalline Zirkoniumdioxid-Filme zugänglich, deren ausgezeichnete Dichte- und Härt...
Die homogene Beschichtung von Substraten mit widerstands-fähigen Maskenmaterialien ist ein Schlüsselschritt in der Halbleitertechnologie. Dieses Buch befasst sich mit dem ökonomisch vorteilhaften Spin-Coating-Verfahren zur Applikation von geeigneten Zirkoniumdioxid-Schichten auf 300 mm Silizium-Wafern. Ausgehend von flüssigen Solen werden über Sol-Gel-Transformation feste Schichten erhalten, deren Eigenschaften für die Anwendung einstellbar sind. Mittels der entwickelten Beschichtungsstrategien sind nanokristalline Zirkoniumdioxid-Filme zugänglich, deren ausgezeichnete Dichte- und Härte-eigenschaften den Weg zum Einsatz als Hartmaskenmaterialien ebnen. Das Anwendungspotential wird anhand spezifischer Ätzversuche gezeigt. Die aus den umfassenden analytischen Untersuchungen gewonnenen Erkenntnisse liefern einen essentiellen Beitrag zum Verständnis des Temperverhaltens von Sol-Gel-Schichten.
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