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Las películas altamente conductoras y transparentes tienen muchas aplicaciones importantes, como los electrodos transparentes para dispositivos optoelectrónicos y los espejos térmicos transparentes para el aprovechamiento de la energía solar. Aunque las películas delgadas de óxido de indio y estaño (ITO) se utilizan generalmente para aplicaciones prácticas, el ITO es un material relativamente caro porque el indio no es abundante. Recientemente, las películas delgadas de ZnO dopadas con Al han atraído el interés como material de recubrimiento transparente y conductor porque el bajo coste de…mehr

Produktbeschreibung
Las películas altamente conductoras y transparentes tienen muchas aplicaciones importantes, como los electrodos transparentes para dispositivos optoelectrónicos y los espejos térmicos transparentes para el aprovechamiento de la energía solar. Aunque las películas delgadas de óxido de indio y estaño (ITO) se utilizan generalmente para aplicaciones prácticas, el ITO es un material relativamente caro porque el indio no es abundante. Recientemente, las películas delgadas de ZnO dopadas con Al han atraído el interés como material de recubrimiento transparente y conductor porque el bajo coste de este material lo hace atractivo para aplicaciones a gran escala. En este libro, se discutirán las condiciones de deposición optimizadas para la preparación de películas delgadas de ZnO dopadas con Al mediante el método de sputtering reactivo de corriente continua. Se presentan sistemáticamente las propiedades estructurales, morfológicas, eléctricas y ópticas de las películas delgadas de ZnO dopadas con Al.
Autorenporträt
Dr. B. Rajesh Kumar, Profesor Asistente, Departamento de Física, GITAM (Deemed to be University), Visakhapatnam, A.P, India Dr. B. Hymavathi, Profesor Asistente, Departamento de Física, ANITS, Visakhapatnam, A.P, India Prof. T. Subba Rao, Facultad UGC-BSR, Departamento de Física, Universidad Sri Krishnadevaraya, Anantapur, A.P, India