Crescimento e Caracterização da película fina ITO por Magnetron Sputtering
Öcal Tuna
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Crescimento e Caracterização da película fina ITO por Magnetron Sputtering

Crescimento da ITO

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Neste estudo, as películas finas de óxido de estanho índio (ITO) foram cultivadas tanto por técnicas de pulverização de magnetrões DC como RF. Para conhecer a taxa de deposição de ITO, os sistemas foram calibrados tanto para DCMS como para RFMS e depois as ITO foram cultivadas em substrato de vidro com a espessura de 70 nm e 40 nm por alteração da temperatura do substrato. Foi investigado o efeito da temperatura do substrato, da espessura da película e do método de pulverização catódica nas propriedades estruturais, eléctricas e ópticas. Os resultados mostram que a temperatur...