23,99 €
inkl. MwSt.
Versandfertig in 6-10 Tagen
12 °P sammeln
Andere Kunden interessierten sich auch für
![FSH en de empowerment van door gewapende conflicten getroffen kinderen]( "FSH en de empowerment van door gewapende conflicten getroffen kinderen")
FSH en de empowerment van door gewapende conflicten getroffen kinderen36,99 €![Neutralisatie van dodelijk PLA2 van Naja naja gif door Kurkuma Peptide]( "Neutralisatie van dodelijk PLA2 van Naja naja gif door Kurkuma Peptide")
Neutralisatie van dodelijk PLA2 van Naja naja gif door Kurkuma Peptide40,99 €![Gebruik van elektronische bronnen door bibliotheekgebruikers]( "Gebruik van elektronische bronnen door bibliotheekgebruikers")
Gebruik van elektronische bronnen door bibliotheekgebruikers36,99 €![DEELTIJDVERPLEEGKUNDIGE FACULTEIT ZOALS GEDEFINIEERD DOOR BOYER'S MODEL VAN DE STUDIEBEURS]( "DEELTIJDVERPLEEGKUNDIGE FACULTEIT ZOALS GEDEFINIEERD DOOR BOYER'S MODEL VAN DE STUDIEBEURS")
DEELTIJDVERPLEEGKUNDIGE FACULTEIT ZOALS GEDEFINIEERD DOOR BOYER'S MODEL VAN DE STUDIEBEURS32,99 €![Kennis en gebruik van pesticiden door kleinschalige boeren in Ikorodu]( "Kennis en gebruik van pesticiden door kleinschalige boeren in Ikorodu")
Kennis en gebruik van pesticiden door kleinschalige boeren in Ikorodu25,99 €![Ongediertebestrijding door middel van gedragscontrole]( "Ongediertebestrijding door middel van gedragscontrole")
Ongediertebestrijding door middel van gedragscontrole25,99 €![Factoren die van invloed zijn op het gebruik van door de aanbieder geïnitieerde counseling]( "Factoren die van invloed zijn op het gebruik van door de aanbieder geïnitieerde counseling")
Factoren die van invloed zijn op het gebruik van door de aanbieder geïnitieerde counseling27,99 €
De belangrijkste plaats in de moderne technologie voor het vervaardigen van micro-elektronische producten wordt ingenomen door fotolithografie. Het technologische proces van fotolithografie bestaat uit verschillende basisbewerkingen: het oppervlak van een halfgeleiderwafel voorbereiden, een laag fotolak op het oppervlak van de wafel aanbrengen, de fotolak drogen, de fotolak belichten, ontwikkelen en verharden, de geometrische afmetingen van het beeld regelen , het etsen van de film, het wassen van de wafel na het etsen, het verwijderen van de fotolakfilm van het oppervlak, het controleren van bewerkte platen. Het doel van het werk was om fotomaskers te verkrijgen met zo min mogelijk parameters voor deze apparatuur. Hiervoor werd de invloed van de belichtingstijd en de ontwikkelingstijd op de parameters van fotomaskers (de aard van het patroon) verkregen met de methode van maskerloze laserlithografie op de belichtingsinstallatie "Heidelberg µPG501" onderzocht. Als resultaat van het werk werden fotomaskers gemaakt met geometrische parameters van 2 ¿m, terwijl voor deze batch de optimale belichtingstijd 35 ms was en de ontwikkelingstijd 60 s.