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  • Produktbild: Pulsed and Pulsed Bias Sputtering
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Pulsed and Pulsed Bias Sputtering Principles and Applications

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92,99 € UVP 106,99 €

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Beschreibung

Produktdetails

Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

23.02.2014

Abbildungen

XI, 157 p. 27 illus.

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

157

Maße (L/B/H)

23,5/15,5/1 cm

Gewicht

271 g

Auflage

Softcover reprint of the original 1st edition 2003

Sprache

Englisch

ISBN

978-1-4613-5063-7

Beschreibung

Produktdetails

Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

23.02.2014

Abbildungen

XI, 157 p. 27 illus.

Verlag

Springer Us

Seitenzahl

157

Maße (L/B/H)

23,5/15,5/1 cm

Gewicht

271 g

Auflage

Softcover reprint of the original 1st edition 2003

Sprache

Englisch

ISBN

978-1-4613-5063-7

Herstelleradresse

Springer-Verlag KG
Sachsenplatz 4-6
1201 Wien
AT

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  • 1 Introduction.- 2 Basic Plasma Phenomenon.- 3 Plasma Sources Used for Sputter Deposition.- 4 Response of a Plasma to an Applied Bias.- 5 Sinusoidal Waveform.- 6 Pulsed Waveform.- 7 Application Of A Pulsed Waveform to a Target: Pulsed Reactive Sputtering.- 8 Application of a Pulsed Waveform to a Substrate: Pulsed Bias Sputtering.- 9 Conclusions and Future Directions.- References.