Nanolithography and Implications on Circuit Design
-
- Englisch ausgewählt
139,99 €
inkl. gesetzl. MwSt.,
Lieferung nach Hause
Beschreibung
Produktdetails
Einband
Gebundene Ausgabe
Erscheinungsdatum
01.11.2012
Herausgeber
David Z. Pan + weitereVerlag
SpringerSeitenzahl
400
Maße (L/B)
23,5/15,5 cm
Auflage
1. 2013
Sprache
Englisch
ISBN
978-1-4419-6156-3
This book provides a comprehensive and updated "state-of-the-art" compilation on nanolithography and implications on future nanometer IC designs. Its scope in a bottom-up manner, includes the underlying equipment and process issues for nanolithography, the computational lithography aspects, and the key design and CAD issues and possible solutions. The subjects covered include: introduction of nanolithography process and trends; computational lithography (including lithography simulations, OPC, inverse lithography, pixilated mask, source mask optimization, etc.); lithography-aware analysis & design; and future lithography technologies and EDA impact.
Kundinnen und Kunden meinen
Verfassen Sie die erste Bewertung zu diesem Artikel
Helfen Sie anderen Kund*innen durch Ihre Meinung
Kurze Frage zu unserer Seite
Vielen Dank für dein Feedback
Wir nutzen dein Feedback, um unsere Produktseiten zu verbessern. Bitte habe Verständnis, dass wir dir keine Rückmeldung geben können. Falls du Kontakt mit uns aufnehmen möchtest, kannst du dich aber gerne an unseren Kund*innenservice wenden.
zum Kundenservice