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Produktbild: Nanoscale CMOS VLSI Circuits: Design for Manufacturability

Nanoscale CMOS VLSI Circuits: Design for Manufacturability Design for Manufacturability

169,99 €

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Beschreibung

Produktdetails

Einband

Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

15.07.2010

Abbildungen

Illustrationen, nicht spezifiziert

Verlag

MCGRAW-HILL Professional

Seitenzahl

352

Maße (L/B/H)

23,1/15,5/2,5 cm

Gewicht

567 g

Sprache

Englisch

ISBN

978-0-07-163519-6

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Gebundene Ausgabe

Erscheinungsdatum

15.07.2010

Abbildungen

Illustrationen, nicht spezifiziert

Verlag

MCGRAW-HILL Professional

Seitenzahl

352

Maße (L/B/H)

23,1/15,5/2,5 cm

Gewicht

567 g

Sprache

Englisch

ISBN

978-0-07-163519-6

Herstelleradresse

Libri GmbH
Europaallee 1
36244 Bad Hersfeld
DE

Email: gpsr@libri.de

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  • Produktbild: Nanoscale CMOS VLSI Circuits: Design for Manufacturability
  • 1. Introduction
    1.1. Current trends in CMOS VLSI Design
    1.2. What is Design for Manufacturability
    1.2.1. Why is its important
    1.2.2. Economics of DFM
    1.3. What is Design for Reliability
    1.3.1. Traditional definition
    1.3.2. Expanded definition
    1.3.3. Why is this an important topic
    1.4. Summary
    2. Semiconductor Manufacturing
    2.1. Introduction
    2.2. Fabrication Process
    2.3. Lithography Simulation
    2.3.1. Fraunhofer Diffraction
    2.3.2. Aerial Image Formation
    2.4. Importance of Aerial imaging simulation
    2.5. Inverse Lithography Simulation
    2.6. Summary
    3. Lithographic Process Variability
    3.1. Introduction
    3.2. Variability in Gate Length & Width
    3.3. Threshold Voltage Variability
    3.4. Metal CMP
    3.5. Interconnect linewidth variation
    3.6. Interconnect LER
    3.7. Summary
    4. Lithographic Control
    4.1. Introduction
    4.2. Physical design rules check
    4.2.1. The end of Boolean Rule-based checks
    4.2.2. Model-based design rule checks
    4.2.3. Cost vs accuracy of model-based checks
    4.3. Resolution Enhancement Techniques (RET)
    4.3.1. Proximity Correction & SRAFs
    4.3.2. Phase shift Masking
    4.3.3. Off-Axis Illumination