Verfahren zur Charakterisierung ultradünner Schichten - Koltunski, Christof
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Die vorliegende Arbeit beschreibt ein neuartiges Kombigerät, das eine visuell unterstützte und ortsaufgelöste, spektroskopische Charakterisierung von ultradünnen Schichten unter Verwendung von polarisiertem Licht ermöglicht. So sollen, durch die Kombination eines Reflexionsspektrometer mit einem abbildenden Ellipsometer, möglichst viele Informationen zur Probe bei einer einzigen Messung erzielt werden.Zunächst werden die physikalischen Grundlagen der einzelnen Messgeräte aufgearbeitet und deren Funktionsweise erläutert.Anschließend werden die wichtigsten opto-mechanischen Baugruppen sowie der…mehr

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Produktbeschreibung
Die vorliegende Arbeit beschreibt ein neuartiges Kombigerät, das eine visuell unterstützte und ortsaufgelöste, spektroskopische Charakterisierung von ultradünnen Schichten unter Verwendung von polarisiertem Licht ermöglicht. So sollen, durch die Kombination eines Reflexionsspektrometer mit einem abbildenden Ellipsometer, möglichst viele Informationen zur Probe bei einer einzigen Messung erzielt werden.Zunächst werden die physikalischen Grundlagen der einzelnen Messgeräte aufgearbeitet und deren Funktionsweise erläutert.Anschließend werden die wichtigsten opto-mechanischen Baugruppen sowie der Gesamtaufbau des Kombigeräts vorgestellt. Nach der Entwicklung eines geeigneten Kalibrierverfahrens wird der aufgebaute Prototyp an Modelsystemen ultradünner Schichten spezifiziert. Dabei wird speziell die Aggregationsarchitektur eines Zyaninfarbstoffs untersucht.Ein derartiges Gerät könnte in biotechnologischen Fragestellungen, aber auch in der Materialforschung eingesetzt werden, da in vielen Anwendungen der Trend zu kleineren Strukturbreiten geht. So fordert z. B. die Halbleiterindustrie die Verkleinerung von Testflächen auf Wafern, um die nutzbare Fläche zu vergrößern.
Autorenporträt
Koltunski, Christof§Geb. am 28.09.1977 in Lodz/Polen.Ausbildung zum Werkzeugmechaniker (1994-1998) und Fortbildung zum staatl. gepr. Techniker und Meister Feinwerktechnik (1998-2000). Studium im Praxisverbund zum Dipl.-Ing.(FH) Feinwerktechnik (2000-2004) und M.Sc. Photonics (2004-2005).Zurzeit Entwicklungsingenieur im Bereich faseroptischer Messsysteme.