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In dieser Monographie ermöglichte die Grundlagenforschung zur Herstellung ultrahochdimensionaler MFPs die Optimierung der Prototyp-Mosaiktechnologie mit einer Reduzierung der "blinden Flecken" durch Erreichen minimaler Randschadensbereiche beim Trennen der Wafer in Kristalle mit der Bereitstellung minimaler Lücken zwischen den Kristallen benachbarter Submodule im MFP auf einen Wert, der 2-3 µm für verschiedene definierende Halbleitermaterialien nicht überschreitet. Es werden originelle grundlegende Ansätze für die Schaffung von MFPs und technologische Methoden für die Herstellung von MFPs mit ultrahoher Dimensionalität vorgestellt. Es wurde eine optische Methode entwickelt, um die höchste Effizienz der Bildumwandlung in MHPs zu erreichen. Die vorgeschlagenen technologischen Prototypen von extra-hochdimensionalen MHPs decken optisch "blinde Flecken" ab und bieten eine ultimative, praktisch 100%ige Bildwandlungseffizienz. Es wurde eine Methodik zur Analyse der Eigenschaften von IR-FP auf der Grundlage von MSCNs und der Bildumwandlungseffizienz von MFPs entwickelt. Es wird festgestellt, dass das Mosaikprinzip grundsätzlich einer der vielversprechenden, bahnbrechenden technologischen Ansätze ist, um eine ultrahohe Dimensionalität von MFPs mit maximaler Bildumwandlungseffizienz zu erreichen.