Étude de nanoindentation sur les alliages NiTi à mémoire de forme en couche mince
Variation de la température de recuit
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Un seul échantillon bicouche composé d'une monocouche de Ni et d'une monocouche de Ti avec la couche de Ni comme couche de base a été déposé sur un substrat de silicium. Pendant le dépôt, le substrat a été tourné à une vitesse prédéfinie. Les couches ainsi déposées ont ensuite été recuites à des températures de 300 C, 400 C, 500 C et 600 C, pendant une période d'une heure dans un four à vide afin d'obtenir la cristallinité des couches ainsi déposées et de former une couche unique cristalline, ainsi qu'à des fins d'homogénéité chimique. La thèse porte sur le proces...
Un seul échantillon bicouche composé d'une monocouche de Ni et d'une monocouche de Ti avec la couche de Ni comme couche de base a été déposé sur un substrat de silicium. Pendant le dépôt, le substrat a été tourné à une vitesse prédéfinie. Les couches ainsi déposées ont ensuite été recuites à des températures de 300 C, 400 C, 500 C et 600 C, pendant une période d'une heure dans un four à vide afin d'obtenir la cristallinité des couches ainsi déposées et de former une couche unique cristalline, ainsi qu'à des fins d'homogénéité chimique. La thèse porte sur le processus de fabrication des alliages NiTi à mémoire de forme en couche mince et la caractérisation de leur morphologie ainsi que sur les propriétés mécaniques des couches minces comme la dureté, le module d'élasticité réduit et donc le module d'élasticité, le taux d'usure et donc la résistance à l'usure, le taux de récupération en profondeur et donc les propriétés super élastiques. Les films ont été fabriqués dans une machine de pulvérisation magnétron DC/RF sur un substrat de Si soigneusement nettoyé et maintenu à une température de 300 C à partir de deux matériaux cibles de 75 mm de Ni et Ti purs à 99,99 % dans une atmosphère inerte composée d'argon pur à 99,99 %. Pendant le dépôt, le substrat a été mis en rotation à une vitesse prédéfinie.
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