Plasmasynthese von Kohlenstoffschichten
Herstellung von Kohlenstoffschichten durch Plasmaprozesse für die Anwendung in Solarzellen
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Ziel dieser Arbeit war es, mit Hilfe von Plasmaprozessen dünne Kohlenstoffschichten auf bestimmten Substraten (Glas, Silizium und FTO-beschichtetes Glas) abzuscheiden und sie anschließend in einem SF6-Plasma in Kombination mit H2, O2 und Ar zu korrodieren, um die Rauheit und damit die Kontaktfläche dieser Schichten mit dem Elektrolyten einer Farbstoffsolarzelle (DSSC) zu erhöhen. Die hergestellten Filme wurden mit Hilfe von Profilometrie, SEM, XRD, XPS, AFM, RAMAN, FTIR, Goniometrie und 4-Punkt-Schichtwiderstandsmessungen charakterisiert und untersucht. Diese Analysen zeigten, dass die Fil...
Ziel dieser Arbeit war es, mit Hilfe von Plasmaprozessen dünne Kohlenstoffschichten auf bestimmten Substraten (Glas, Silizium und FTO-beschichtetes Glas) abzuscheiden und sie anschließend in einem SF6-Plasma in Kombination mit H2, O2 und Ar zu korrodieren, um die Rauheit und damit die Kontaktfläche dieser Schichten mit dem Elektrolyten einer Farbstoffsolarzelle (DSSC) zu erhöhen. Die hergestellten Filme wurden mit Hilfe von Profilometrie, SEM, XRD, XPS, AFM, RAMAN, FTIR, Goniometrie und 4-Punkt-Schichtwiderstandsmessungen charakterisiert und untersucht. Diese Analysen zeigten, dass die Filme, die dem Plasmatexturierungsprozess unterzogen wurden, für jede verwendete Gas-Kombination ein charakteristisches Nanostrukturmuster erhielten. Die goniometrische Analyse ergab, dass TT die abgeschiedenen Schichten hydrophob machte. Nachdem sie jedoch dem Plasmatexturierungsprozess unterzogen wurden, wurden sie superhydrophil. Diese Ergebnisse (erhöhte Rauheit und Hydrophilie) sind von großerBedeutung für die Anwendung dieser Filme in DSSC-Gegenelektroden.
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