Nanoindentationsstudie über Niti-Dünnfilm-Formgedächtnislegierungen
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Eine einzelne zweischichtige Probe, bestehend aus einer Monoschicht aus Ni und einer Monoschicht aus Ti mit der Ni-Schicht als Basisschicht, wurde auf einem Siliziumsubstrat abgeschieden. Während der Abscheidung wurde das Substrat mit einer vordefinierten Geschwindigkeit gedreht. Die so abgeschiedenen Schichten wurden dann bei Temperaturen von 300 C, 400 C, 500 C und 600 C über einen Zeitraum von 1 Stunde in einem Vakuumofen geglüht, um Kristallinität in den so abgeschiedenen Schichten zu erreichen und eine kristalline Einzelschicht zu bilden und auch zum Zweck der chemischen Homogenität....
Eine einzelne zweischichtige Probe, bestehend aus einer Monoschicht aus Ni und einer Monoschicht aus Ti mit der Ni-Schicht als Basisschicht, wurde auf einem Siliziumsubstrat abgeschieden. Während der Abscheidung wurde das Substrat mit einer vordefinierten Geschwindigkeit gedreht. Die so abgeschiedenen Schichten wurden dann bei Temperaturen von 300 C, 400 C, 500 C und 600 C über einen Zeitraum von 1 Stunde in einem Vakuumofen geglüht, um Kristallinität in den so abgeschiedenen Schichten zu erreichen und eine kristalline Einzelschicht zu bilden und auch zum Zweck der chemischen Homogenität. Die Arbeit befasst sich mit dem Prozess der Herstellung von NiTi-Dünnschicht-Formgedächtnislegierungen und der Charakterisierung ihrer Morphologie sowie den mechanischen Eigenschaften der Dünnschichten wie Härte, reduzierter Elastizitätsmodul und damit der Elastizitätsmodul, Verschleißrate und damit die Verschleißfestigkeit, Tiefenerholungsrate und damit die superelastischen Eigenschaften. Die Filme wurden in einer DC/RF-Magnetron-Sputteranlage auf einem gründlich gereinigten Si-Substrat hergestellt, das bei einer Temperatur von 300 C aus zwei 99,99 % reinen 75 mm Ni und Ti-Targetmaterialien in einer inerten Atmosphäre aus 99,99 % reinem Argon gehalten wurde. Während der Abscheidung wurde das Substrat mit einer vordefinierten Geschwindigkeit gedreht.
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