Modifizierung von Poly(dimethylsiloxan) für die Computer-to-Plate Driographie
Photochemische Modifizierung von Poly(dimethylsiloxan) zu SiOx
Versandkostenfrei!
Versandfertig in 6-10 Tagen
79,00 €
inkl. MwSt.
PAYBACK Punkte
0 °P sammeln!
Im Rahmen dieser Forschungsarbeit wurde eine Methode zur photochemischen Oberflächenmodifizierung von Poly(dimethylsiloxan) (PDMS) zu SiOx entwickelt, die anders als die bisher in der Literatur beschriebenen Verfahren (z.B. Pyrolyse, LB-Technik, PLD, Verwendung von Sauerstoffplasma) eine Verwendung in der Computer-to-Plate Driographie ermöglicht. Hierfür wurden drei Strahlungsquellen im UV- und Vakuum-UV-Bereich auf ihren möglichen Einsatz hin untersucht: Nd:YAG-Laser (266 nm), KrF_-Excimer-Laser (248 nm), Xe2_-Excimer-Lampe (172 nm). Die bestrahlten PDMS-Oberflächen wurden mit geeigneten...
Im Rahmen dieser Forschungsarbeit wurde eine Methode zur photochemischen Oberflächenmodifizierung von Poly(dimethylsiloxan) (PDMS) zu SiOx entwickelt, die anders als die bisher in der Literatur beschriebenen Verfahren (z.B. Pyrolyse, LB-Technik, PLD, Verwendung von Sauerstoffplasma) eine Verwendung in der Computer-to-Plate Driographie ermöglicht. Hierfür wurden drei Strahlungsquellen im UV- und Vakuum-UV-Bereich auf ihren möglichen Einsatz hin untersucht: Nd:YAG-Laser (266 nm), KrF_-Excimer-Laser (248 nm), Xe2_-Excimer-Lampe (172 nm). Die bestrahlten PDMS-Oberflächen wurden mit geeigneten Analysenmethoden untersucht, um Aufschluss über die chemischen und physikalischen Eigenschaften der PDMS-Oberflächen während und nach der Bestrahlung und den Mechanismus der Modifizierung zu gewinnen. Abschließend wurde die Möglichkeit einer Einbindung in den driographischen Druckprozess geprüft. Im Falle der Xe2_-Excimer-Lampe führten die Drucktests zu einem ansprechenden Druckbild.
Andere Kunden interessierten sich für
