Estudo de nanoindentação em ligas de memória de forma de filme fino NiTi
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Uma única amostra bi-camada constituída por uma monocamada de Ni e uma monocamada de Ti com a camada de Ni como camada base foi depositada sobre um substrato de silício. Durante a deposição, o substrato foi rodado a uma velocidade pré-definida. As camadas como depositadas foram então recozidas a temperaturas de 300 ¿ C, 400 ¿ C,500 ¿ C e 600 ¿ C, por um período de 1 hora em um forno de vácuo, a fim de alcançar a cristalinidade nas camadas como depositadas e formar uma única camada cristalina e também para fins de homogeneidade química. A tese trata do processo de fabricação ...
Uma única amostra bi-camada constituída por uma monocamada de Ni e uma monocamada de Ti com a camada de Ni como camada base foi depositada sobre um substrato de silício. Durante a deposição, o substrato foi rodado a uma velocidade pré-definida. As camadas como depositadas foram então recozidas a temperaturas de 300 ¿ C, 400 ¿ C,500 ¿ C e 600 ¿ C, por um período de 1 hora em um forno de vácuo, a fim de alcançar a cristalinidade nas camadas como depositadas e formar uma única camada cristalina e também para fins de homogeneidade química. A tese trata do processo de fabricação de ligas de memória de forma de filme fino de NiTi e da caracterização de sua morfologia, bem como das propriedades mecânicas dos filmes finos como dureza, módulo elástico reduzido e, portanto, o módulo elástico, taxa de desgaste e, portanto, a resistência ao desgaste, relação de recuperação de profundidade e, consequentemente, as propriedades super elásticas. As películas foram fabricadas numa máquina de pulverização magnética DC/RF em substrato de Si completamente limpo mantido a uma temperatura de 300 ¿ C a partir de dois materiais alvo de 75 mm de Ni e Ti com 99,99% de pureza, numa atmosfera inerte composta por 99,99% de Argônio puro. Durante a deposição, o substrato foi rodado a uma velocidade pré-definida.
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