Antimon und seine anodische Oxidschicht
Untersuchung in konzentrierter H2SO4 durch CV-, EIS-, SEM- und AFM-Techniken
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Die an der Luft gebildeten und die anodischen Filme auf Antimonoberflächen sind anfällig für die Auflösung im sauren Medium, wobei sich der anodische Film schneller auflöst als der an der Luft gebildete Film. Dies könnte darauf zurückzuführen sein, dass der anodische Film, der sich auf der Antimonoberfläche gebildet hat , defektere Eigenschaften aufweist als der an der Luft entstandene Film. Die Ergebnisse der Polarisation zeigten , dass die Korrosionsrate von Antimon mit steigender Temperatur zunahm . Die REM-Aufnahmen zeigten, dass die anodische Polarisierung des Metalls in 4,97 M H...
Die an der Luft gebildeten und die anodischen Filme auf Antimonoberflächen sind anfällig für die Auflösung im sauren Medium, wobei sich der anodische Film schneller auflöst als der an der Luft gebildete Film. Dies könnte darauf zurückzuführen sein, dass der anodische Film, der sich auf der Antimonoberfläche gebildet hat , defektere Eigenschaften aufweist als der an der Luft entstandene Film. Die Ergebnisse der Polarisation zeigten , dass die Korrosionsrate von Antimon mit steigender Temperatur zunahm . Die REM-Aufnahmen zeigten, dass die anodische Polarisierung des Metalls in 4,97 M H2SO4 Kratzer und Defekte auf der mechanisch polierten Antimonoberfläche reparierte . Außerdem zeigte das AFM-Bild des anodisch erzeugten Antimonfilms, dass er homogen und porenfrei war.
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